专题解读
标准粒子专题 | Zeta电位标准粒子，如何让你的测试结果更“靠谱”？
在现代纳米材料、生物制药、精细化工等领域中，Zeta电位（ζ-potential）作为表征颗粒分散稳定性的重要物理参数，越来越受到重视。然而，不少实验人员在日常测试中遇到过这样的问题：不同天测出的数据差异较大、仪器换一台后测试结果变化明显、客户审计时无法提供设备验证记录等。这些问题背后往往都指向一个根源——仪器测量是否可靠？结果是否可追溯？
不溶性微粒应用专题 | 2025年中国药典不溶性微粒检测相关解读
2025 版《中国药典》<0903>章节对光阻法检测体系进行了修订。本次修订围绕检测方法、判定标准及数据管理等维度进行优化，为制药行业提供了更科学、更严谨的微粒控制技术规范。以下为对2025年CP<0903>不溶性微粒检查法 更新部分的解读。
复杂制剂应用专题 | PSS粒度仪在脂质体行业上的应用
在医药和化妆品行业中脂质体是由磷脂制作而成的小球，它的粒径和表面电荷的检测是非常重要的一项。动态光散射是检测亚微米脂质体最常见的分析技术，单颗粒光学传感技术用于检测大于1微米的脂质体。Nicomp 380激光粒度仪和AccuSizer 780颗粒计数器在世界各地的实验室都在为脂质体检测粒径和电位(zeta电位)。
电池行业应用专题 | 锂电池材料中的LPC对电池涂布工艺的影响
随着新能源汽车和储能市场对高性能锂电池需求的不断增长，锂电池涂布工艺的优化成为提升电池性能和质量的关键环节。本文深入探讨了大颗粒计数（Large Particle Counts，LPC）对锂电池涂布工艺的影响，并提出了从原材料控制到涂布工艺优化、在线监测与反馈以及后处理工艺的全流程优化策略。研究结果表明，LPC控制不仅能够显著提升锂电池的性能和一致性，还能有效降低生产成本，为锂电池制造工艺的进一步优化提供了理论和实践依据。未来，随着检测技术和自动化控制技术的不断发展，LPC控制将在锂电池生产中发挥更为重要的作用。
电池行业应用专题 | 锂电池材料中的LPC对电池涂布工艺的影响
随着新能源汽车和储能市场对高性能锂电池需求的不断增长，锂电池涂布工艺的优化成为提升电池性能和质量的关键环节。本文深入探讨了大颗粒计数（Large Particle Counts，LPC）对锂电池涂布工艺的影响，并提出了从原材料控制到涂布工艺优化、在线监测与反馈以及后处理工艺的全流程优化策略。研究结果表明，LPC控制不仅能够显著提升锂电池的性能和一致性，还能有效降低生产成本，为锂电池制造工艺的进一步优化提供了理论和实践依据。未来，随着检测技术和自动化控制技术的不断发展，LPC控制将在锂电池生产中发挥更为重要的作用。
半导体行业应用专题 | 晶圆制造中CMP与刻蚀后清洗工序中关键物料的在线监控方案
在半导体制造中，化学机械抛光（CMP）和刻蚀后清洗是确保晶圆表面质量的关键工序。CMP通过化学与机械结合的方式实现表面平坦化，而刻蚀后清洗则去除刻蚀残留和污染物，保证后续工艺的顺利进行。在CMP工艺中，LPC（大颗粒污染物）监测和H₂O₂浓度控制至关重要，前者防止颗粒划伤晶圆表面，后者确保氧化能力的稳定，从而影响去除率和表面质量。在刻蚀后清洗中，DSP+溶液中的H₂SO₄和HF浓度监测对于控制清洗效果至关重要，过高或过低的酸浓度会影响金属去除和氧化物清洗效率。高效的在线监控方案是提高良品率和确保工艺稳定性的关键。
其他行业应用专题 | PI浆料颗粒度检测整套解决方案
为PI行业量身打造颗粒度检测设备，提供P1颗粒度检测全套解决方案。针对于PI浆料样品，使用AccuSizer780系列以及在线设备进行粒度检测。颗粒度或称洁净度是PI浆料在柔性显示、微电子等应用中一大关键技术性能，严重影响着柔性显示屏及电子元器件等的可靠性。PSS粒度仪能为此样品提供整套解决方案，为您得出最可靠的数据。
半导体行业应用专题 | 大颗粒(LPC)对抛光效率和良品率的影响 -- TEOS层的CMP抛光研究.
随着半导体行业的蓬勃发展，作为重要工艺段的CMP获得了广泛的关注。而作为此工艺段的重要原料-CMP slurry，更是诸多学者研究的对象。本文将重点结合Liu团队2018年在ECS发布的论文：《Effects of Large Particles on MRR, WIWNU and Surface Quality in TEOS Chemical Mechanical Polishing Based on FA/O Alkaline Slurry》展开介绍
TEOS 是一种特殊的二氧化硅，以四乙基硅酸盐为原料沉积而成，作为阻挡层下的牺牲层。TEOS的均匀性和表面质量对集成电路的可靠性有着至关重要的作用，因此，本文探讨了LPC对TEOS表面质量和抛光过程的影响。
通过实验验证，LPC对MRR（材料去除率）、WIWUN（片内非均匀性）、RMS（均方根粗糙度）都有显著影响：LPC的存在导致边缘MRR增加、WIWNU和RMS粗糙度恶化，使得TEOS晶圆表面质量下降，影响到抛光效率和良品率。随着半导体行业的蓬勃发展，作为重要工艺段的CMP获得了广泛的关注。而作为此工艺段的重要原料-CMP slurry，更是诸多学者研究的对象。本文将重点结合Liu团队2018年在ECS发布的论文：《Effects of Large Particles on MRR, WIWNU and Surface Quality in TEOS Chemical Mechanical Polishing Based on FA/O Alkaline Slurry》展开介绍
TEOS 是一种特殊的二氧化硅，以四乙基硅酸盐为原料沉积而成，作为阻挡层下的牺牲层。TEOS的均匀性和表面质量对集成电路的可靠性有着至关重要的作用，因此，本文探讨了LPC对TEOS表面质量和抛光过程的影响。
通过实验验证，LPC对MRR（材料去除率）、WIWUN（片内非均匀性）、RMS（均方根粗糙度）都有显著影响：LPC的存在导致边缘MRR增加、WIWNU和RMS粗糙度恶化，使得TEOS晶圆表面质量下降，影响到抛光效率和良品率。
复杂制剂应用专题 | 两种测定胶体稳定性的分析新技术-单颗粒光学传感技术(SPOS)和空间时间消光谱图(STEP)分析法
本文主要探讨了胶体悬浮液的稳定性控制问题。胶体悬浮液在药物输送、软饮料制造、涂层、抛光等领域有广泛应用，其稳定性对产品性能、保质期、生产效率和成本控制至关重要。文章介绍了 单颗粒光学传感技术（SPOS）技术和加速离心分析结合空间光谱（STEP）分析技术在胶体稳定性分析中的作用，SPOS 技术可精确测量粒子大小和浓度，加速离心分析结合STEP技术，空间-时间消光谱图快速评估胶体稳定性。通过对碳酸钙浆液、软饮乳液和 CMP Slurry 等样品的测量，表明这两种技术能有效分析胶体样本的粒径分布及稳定性。有助于制造商识别不合规格的产品，优化生产工艺，提高产品质量。
复杂制剂应用专题 | 注射用微球制备及表征一体化 解决方案
复杂制剂应用专题 | 注射用微球制备及表征一体化 解决方案
不溶性微粒应用专题 | 疫苗中不溶性微粒测试探讨疫苗中不溶性微粒测试探讨
不溶性微粒作为药品中不容忽视的颗粒杂质，其来源广泛，可能在药品生产、运输、储存及使用的多个环节混入。进入人体血液循环后，这些不溶性微粒可能会引发炎症、肉芽肿、血栓等严重健康问题，甚至可能与肿瘤发生有关。疫苗通常通过注射给药，其中的不溶性微粒会干扰免疫反应，进而影响疫苗的安全性和有效性。例如，疫苗辅料蔗糖中的不溶性微粒可能引发速发型过敏反应。各国药典对不溶性微粒检测规定存在差异。《中华人民共和国药典》（ChP 2025）目前主要针对静脉注射类制剂，而常见疫苗接种剂型未被覆盖。美国药典（USP-NF 2024）则将多数肠外给药产品（包括疫苗注射剂）纳入检测，并明确了不同容量规格注射液的微粒限值。日本药典和欧洲药典检测范围同样涵盖疫苗注射剂。本文列举了几种疫苗中不溶性微粒检测技术，其中光阻法凭借检测速度快、操作简便的优势成为主流，但其易受样品颜色、浊度和粘性干扰，且无法区分微粒的性质；显微镜法虽能直观观察微粒形态等特征，但操作繁琐、效率低且容易受到主观因素影响。新兴的纳米颗粒跟踪分析（NTA）、扫描电子显微镜技术（SEM）和微流数字成像（MDI）技术为检测提供了新途径，不过也存在样品制备复杂、对小于5μm的颗粒区分困难等局限。鉴于此，本文结合各国药典法规与技术方法的对比研究，就优化疫苗不溶性微粒检测体系提出探讨。建议在未来修订过程中，适时参考国际标准，逐步完善注射剂检测范围，使疫苗注射剂的质量监测更具针对性，以进一步提升疫苗的质量管理水平，助力公共卫生安全。
电池行业应用专题 | 铂炭催化剂浆料均一性的一体化解决方案
复杂制剂应用专题 | 乳佐制备及表征一体化解决方案
佐剂（Adjuvant）又称免疫调节剂或免疫增强剂（Immunepotentiator），是作为疫苗的一种添加剂，当它先于抗原或与抗原混合注入机体后，能够增强机体对抗原的免疫应答或者改变免疫反应的类型，属于非特异性的免疫增强剂，而其本身无抗原性。理想的佐剂不仅能够增强免疫反应，而且能使机体获得最佳的保护性免疫。乳佐的均一性和稳定性是非常重要的两个考察项，而与此直接相关的是粒度的控制[1]。
半导体行业应用专题 | 二氧化铈 CMP 浆料监测
化学机械抛光/平坦化(CMP)是微电子行业广泛使用的一种工艺,通过化学力和机械力来进行平坦化处理。该工艺使用磨料和腐蚀性浆料来帮助平坦化晶圆表面。浆料的粒度分布是控制平坦化工艺成功的关键参数。氧化铈(ceria)的浆料广泛地应用于集成电路(1C)制造的各种 CMP工艺中，本应用说明记录了 AccuSizer® Mini FX 准确测量二氧化铈 CMP 浆料的平均粒径和浓度,并检查是否存在尾端大粒子的实际案例。
半导体行业应用专题 | 光刻胶用色浆均一性的一体化解决方案
复杂制剂应用专题 | 不溶性微粒的检测专题 - 拷贝
仪器日常维护专题 | AccuSizer A7000 APS 日常维护tips
仪器日常维护专题 | AccuSizer A9000 FX Nano聚焦光束纳米计数仪日常维护Tips
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