Why ?

为什么用APM?

· 一站式备齐CMP解决方案,提升晶圆良率

· 精准掌控晶圆制备及清洗的关键过程H2O2、H2SO4、HF等浓度水平

· 远超离线设备的在线浓度计

· 高可靠性,离群几率低至十万分之一/年

· 专为OEM厂家设计

How?

如何提高良品率?

· 精准控制过氧化物浓度

· 过氧化物过高,metal lift and dishing

· 过氧化物含量过低,金属去除率不足,抛光效果不佳

· 氧化物的监测和控制可以保持工艺化学成分和完整性

What we can do?

我们能做什么?

· 优化工艺参数:通过精确测量双氧水浓度(低于1%),提高生产效率和产品质量

· 降低生产成本:减少因浓度过高或过低导致的原材料浪费和不良品率,降低生产成本

· 提升产品质量:稳定的双氧水浓度有助于实现均匀的金属处理和抛光效果,提升产品表面质量和光泽度

Who should use?

谁应该使用?

· 研磨液(Slurry)的生产商,CMP SDS系统集成供应商,芯片IDM生产企业或晶圆代工厂

Where to use?

在哪里使用?

· POU 端监控Fab浆料稀释过程

· 电化学&浓度双法监控

· Slurry(研磨液)抛光过程中过氧化物浓度监控



 产品介绍 | INTRODUCTION



SemiChem Advanced Process Monito(r APM)是一款集自动取样、分析和报告关键过程的定量化学浓度于一体的化学监测系统。通过全面的在线化学监测,该系统可实时校正浆料成分,从而稳定控制工艺生产条件。APM系统可提供分类化学浓度数据,数据即时显现,助力操作人员快速纠正可能对产品质量产生负面影响的变化,有助于满足更高的产品产量要求。



                              图片 1.png


经验证的标准电化学技术

实时监测浓度监控系统


对于浓度低于1%的H2O2具有高灵敏度



       应用领域 | Application

l半导体领域CMP slurrry中过氧化物(双氧水)的在线浓度检测

lCMP slurrry过氧化物(双氧水H2O2)的浓度分析

lDSP+(dilute sulfuric peroxide HF mixture)的浓度检测


在全球范围内,已安装了近3000套SemiChem  APM系统,在微电子环境中的所有湿化学应用中证明了其卓越的性能。应用包括但不限于:

l铜、钨、阻挡层和金属CMP

lPAN蚀刻、Piranha蚀刻

l特制清洗剂

lHF氢氟酸

lDSP+

l废水



功能和优势 | Features & Benefits


          电化学技术精准监控

l提供低于1%浓度的高灵敏度监控,确保生产过程中化学成分的稳定性和完整性

l提供准确的化学浓度数据,使浆料/化学分配系统能够提供准确的化学浓度

           在线检测,实时反馈

 

l实时在线检测挥发性化学物质的工艺偏差,助力快速纠正,防止产品质量受损

l将实验室级别的精准技术成功过渡到在线,实现快速、准确的在线控制

          坚固耐用的工业设计,适应性强

 

l平均维持至少8500小时无故障工作时间,确保长期稳定运行,提供持久可靠的监控服务

l可经受严峻的工业环境考验




仪器原理 | PRINCIPLE



SemiChem在线浓度监测仪工作原理


滴定法:(氧化还原,酸碱中和)


氧化还原滴定法原理:

基于氧化还原反应的定量关系。滴定剂(通常为氧化剂或还原剂)与待测物质发生氧化还原反应,通过滴定剂的消耗量反推物质的浓度。

酸碱滴定法原理:

利用酸和碱在水中以质子转移反应为基础的滴定分析方法。其基本反应为H++OH-=H2O,也称为中和法。

特点:


· 典型分析方法

图片 2.png 

· 通过滴定剂达到endpoint时消耗的标准物质量,快速准确地分析溶液中分析物的浓度

· 精准

· 容错率高

· 可以测量多种溶液

滴定曲线图



ISE(离子吸附)


原理:

使用特定分析物和选择性灵敏膜作为指示电极测量选择性耦合电位差。

 


特点:


· 仅对指定离子选择性响应

图片 3.png

· 由与特定离子反应并结合的薄膜组成

· 没氧化还原反应

· 电导率(离子可转移)

离子吸附原理图




  仪器参数 | SPECIFICATION


性能规格

分析方法

电位滴定法/标准添加法/光度测定法

电位测量的准确性1

显示值的±0.2%

标准添加剂的准确性1

显示值的±2.0%

电位测量精度1

±0.2%对误差

标准添加精度1

±2.0%对误差

测量时间

5分钟/次(取决于方法设定)

校准间隔

启动时2

样品消耗

<5mL/次

进样量

0.05至5mL(取决于方法设定)

样品温度

最高93℃(200°F)

耗水量

<1000 mL/次

系统设施要求3

样品进样/排样

<207kPa(30 psi),0.5升/分钟

外径1/4扩口接头,1”FPT安全壳联轴器

去离子水

138-276kPa (20-40 psi)

2.0升/分钟

外径1/4”扩口接头

CDA

414-552kPa (60-80psi)

外径1/4"快速接头

排水

处理管:3/4”NPT重力排水管

储水管:1/2”NPT重力

电源

110/220 VAC,50/60Hz,1.0/0.5A现场可切换

排气

1-7/8” OD@17立方英尺/分