粒度仪实验数据,高科技领域应用实例,粒度检测具体应用,应用文献-奥法美嘉科技

Aramus™一次性袋颗粒测试部件或外壳的清洁度对于避免有害的颗粒污染非常重要。一种公认的确定清洁度的方法是使用液体颗粒计数器来量化暴露于相关部分后水中颗粒的大小和数量。本应用说明解释了如何使用 AccuSizer™液体颗粒计数器来鉴定 Entegris Aramus™一次性二维袋组件的清洁度

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用微流化器制备更小粒径微流化器是一种用来减少乳化液/悬浮液粒径的非常有效的技术。用实验室规模的微流体仪处理乳液和脂质体制剂，并用PSS Nicomp动态光散射(DLS)系统分析了粒径减小的过程。

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不溶性微粒测试仪在过滤行业的应用过滤是从流体中去除颗粒，本文将重点关注液体中固体颗粒的去除。液体颗粒计数器的一个常用用途是评估过滤器去除不同尺寸范围的颗粒的效率。典型的应用包括上游/下游过滤测试、过滤液的实验室测试和使用点(POU)监测，PSS AccusSizer的这三个应用在许多行业中都有体现。

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726 Stability of Bitmen Emulsions 沥青和乳化沥青主要用在公路工程建设和作为粘合剂来生产沥青混凝土。它们是细小的沥青在水中的分散体。对这种乳剂错误的储存或者是处理将会导致其不稳定。举个例子，通过泵压对乳剂的压缩会使乳剂成分变得粗糙劣质，而低温则会导致其产生絮状沉淀和聚合，这两种情况都会造成有效材料的破坏。由此可见，对沥青颗粒粗糙程度的监控的能力对于维护乳化沥青成分的稳来说是一个极具价值的工具。

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PSS AN 724 Spiked Emulsion 乳制品乳液中的脂肪滴会影响产品的味道、质地和稳定性。过大的脂肪滴会影响这三种情况，导致风味不佳、质地油腻和奶油化。通过定量监测乳制品乳液中的超大颗粒，可以预测乳液质量。我们面临的挑战是确定掺有一定量纯奶油的乳制品乳液中大于1微米的超大颗粒的体积分数。

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含乳饮料的稳定性用于生产瓶装软饮料的调味乳液必须由均匀大小的液滴组成，这些液滴应足够小以防止结块或奥斯瓦尔德熟化，这两种情况都会导致乳液“破裂”并在瓶内形成化妆品上不理想的“颈环”。由于导致颈环的过程是渐进的，因此可以在早期发现。

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CMP Slurry 的尾端分布检测化学机械抛光/平面化（CMP）是微电子工业中广泛应用的一种结合化学和机械力对表面进行抛光的工艺。浆料的粒度仪分布是控制平化成功与否的关键参数。一些大颗粒会划伤晶圆或磁盘驱动器的表面，降低产量和利润。Accusizer粒度计数分析仪是能够检测少数大颗粒分布的尾部，可能是如此有害的CMP过程。

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红、白细胞的Zeta电位检测 Zeta电位被用来测量胶体分散体的稳定性。它的基础是电势与粒子表面的电荷成比例。Zeta电位越大，粒子间的斥力就越强。如此大的斥力使扩散的粒子不会随机碰撞在一起形成聚集体。zeta电势的测量在其他方面也很有用。在本文中，zeta电位被用来测试将血液分离成不同组分的仪器。红细胞比白细胞有更大的表面电位。观察到，随着各部分白细胞浓度的升高，平均zeta电位降低。

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使用AccuSizer 780对红、白血细胞进行粒径检测及颗粒计数传统意义上，红细胞和白细胞都是用电阻法计数的。这种方法测量的是当分散在导电介质中的粒子通过小孔时，电阻的增加或相反，电导率的减少。这种反应的大小与粒子的体积和大小有关。尽管这项技术多年来一直适用，但本文证明，使用SPOS(单粒子光学传感)结合自动稀释功能对红细胞和白细胞的大小及颗粒计数检测，可以比电阻法更易于使用和更少的稀释剂限制。

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CMP浆体粒径分析：SPOS与费朗霍夫半导体行业正在朝着更小的线宽和更多的层的方向发展。迈向这种高密度芯片技术的最重要的工艺考虑之一是对平面化步骤的更复杂的控制。抛光步骤受胶体分散金属氧化物浆料（CMP，化学机械平面化的简称）的影响，主要是二氧化硅和氧化铝，平均直径在10nm-200nm范围。这些浆料被用于放置晶圆片的旋转抛光垫上。在过去，激光衍射最常用来表征这些浆料的粒度分布。人们一直都知道，这些浆料中含有的体积百分比小于1微米的颗粒。这些颗粒会在晶圆片表面造成划伤和其他缺陷。本文将证明，由于测量的性质，激光衍射法不足以定量测定不合规格的浆料颗粒的浓度。另一方面，单粒子光学粒度（SPOS）可对颗粒进行计数，将被证明是表征CMP浆料的一个很好的工具。

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粒径控制对脂质体载药的重要作用及相关检测方法脂质体作为药物载体，控制其粒径大小是必要的。动态光散射法和单颗粒光学传感技术可分别对亚微米、微米级别的粒径进行分析，美国药典中对粒径分布有明确的规定。通过实验验证了美国PSS公司的Nicomp 380/ZLS激光粒径检测仪、AccuSizer 780A光学粒径检测仪的结合使用，可以对粒径进行更全面科学的质量控制。

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浆料粒径对CMP工艺缺陷水平的影响通过使用两种粒度测量仪器，对最常用的化学机械抛光（CMP）氧化物浆料（CabotSC-112）的浆料粒度进行了分析。其中一种仪器是PSS粒度仪公司的Nicomp 380，用于监测平均粒径为100nm左右的浆料颗粒的主要群体。另一种仪器，Accusizer 770被发现是有效的监测粒径大于1μm。粒径分布测试是从供应商源容器和CMP机器上的使用点进行的，这些结果与BPSG CMP过程的缺陷级别相关。在研究过程中发现，浆料磨料颗粒的主要种群在样品间变化不大。然而，一小部分（＜0.01%）的大浆料颗粒在晶圆上颗粒数量的增加有关。经过仔细检查，发现这些颗粒是嵌入的浆料颗粒和微小的划痕。

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CMP 研磨液中颗粒的评价技术在化学机械抛光过程中，各种研磨液用于晶圆平坦化处理。这些研磨液中颗粒浓度可达＞1015颗/ml。除了用于抛光的大量颗粒外，研磨液中还含有相对较少＞1.0um的颗粒（二氧化硅而言 104-106颗/ml；氧化铝而言109颗/ml）。这些颗粒可能会在晶圆表面平坦化处理的时候造成微划伤。已开发出相应的技术用于评估研磨液中＞1.0um的不良颗粒以及这些颗粒的浓度。这些技术可以帮助我们确认系统中的颗粒污染源，以及帮助评估过滤的有效性以及减少这些不良颗粒。

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USP <788> Particle Counting AccuSize系列仪器用于不溶性微粒检测案例医用注射液不能含有可见异物。不可见异物通过使用光阻法的法、或者显微镜法检测，或者两者同时使用。在测量体积>100 mL时一般用光阻法，除另有规定外。针对单个或者混合无菌粉体制剂配成的注射液容积<100 mL (小剂量)就要单独检测。

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喷墨墨水过滤喷墨中过大的颗粒会导致分散沉降、不稳定或喷墨喷嘴失效。如果检测到颗粒过大，就可以采取措施控制颗粒大小。其中一种方法是通过过滤去除大颗粒。测定分散颗粒平均直径的方法有很多，但大多数都不能测定少量的超大尺寸材料。基于粒度和计数单个粒子的方法特别适合于这种类型的分析，在这个过程中，即使是少量的异常值也会被粒度和计数。

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AN-754 ISO4406污染度等级污染是油品降解的唯一最大原因。如果不加以控制或预防，污染可能会导致系统严重故障。通常使用液体颗粒计数器（例如PSS AccuSizer）对流体清洁度进行量化。使用光学传感器分析样品。各种行业标准（1,2,3）提供了使用与选定颗粒尺寸上的浓度相关的代码（标度）值报告流体清洁度的方法。最常用的标准是ISO 4406液压动力液体方法，用于编码固体颗粒的污染程度。

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CMP过滤效率 CMP 解决方案在半导体技术高速公路上发挥着不可或缺的作用。它们是高密度集成电路生产中必不可少的步骤。CMP 溶液是由多种组分组成的复杂分散体。这些胶体系统的生产和稳定性非常复杂，很难预测，因此必须在生产过程中，甚至在最终装运之前对它们进行监控。一些 CMP 溶液表现出独特的行为，受剪切和机械应力的影响，导致不可逆的结块。这些低水平的结块常常在晶圆片生产过程中造成划伤，有时直到生产很长时间才发现划伤，给最终用户造成重大经济损失。

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通过单颗粒光学传感（SPOS）对CMP浆料进行超灵敏的在线监测我们已经开发了一个强大的工具，可以对CMP浆料进行连续的在线监控。我们的新AccuSizer 780 / OL系统基于单颗粒光学传感（SPOS）技术，可以快速，准确地确定大于0.5微米的“异常”颗粒的粒径分布（PSD），这可能会导致严重的缺陷。抛光过程中的晶圆表面。

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PSS仪器用于咖啡伴侣的等电点测试分析等电点可以通过滴定样品PH值，再用Nicomp 380 ZLS 记录Zeta电位，Zeta电位为0时的PH值就是等电点。应用案例：将奶精粉与去离子水以0.1g：100 mL混合。样品置于磁力搅拌盘内一直搅拌，并插入一个全新的PH 探针。随着0.1N 的盐酸加入，PH会发生改变。当PH稳定后用注射器移取样品到Zeta电位测量池。测量三次取其平圴值，与相对应的PH值作图。

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Nicomp 380在线系列仪器在药物纳米颗粒应用分析纳米药物研究近些年主要着重在药物的传递方向并发展迅猛，纳米粒的大小可以有效减少毒性和副作用。所以，控制这些纳米粒的粒径大小是非常必要的。以前我们检测产品的粒度大都是在实验室完成的，然而现在我们也可以在制备过程中可以进行在线检测。这篇应用讲解了BIND医疗公司在英国剑桥MA完成这一开拓性的实验创举——将动态光散射技术运用到药物纳米载体Accurins的生产线上。

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