Entegris在设计和生产用于半导体制造工艺中的化学机械平坦化（CMP）浆料和配方清洁化学品的高精度分析仪器的有丰富的经验。我们的技术旨在确保复杂混合化学品的精确一致性，并在 CMP和配方清洁工艺中实现高产量。

我们的 SemiChem Advanced Process Monitor （SemiChem 在线浓度监测仪）是集自动取样、分析和报告关键过程的定量化学浓度的化学监测系统。全面的在线化学监测可实时校正浆料成分，从而稳定控制工艺生产条件。该系统可提供分类化学浓度数据。当立即显现时，可以快速纠正可能对产品质量产生负面影响的变化，有助于满足更高产品产量的要求。

在全球范围内，我们安装了近3000套SemiChem APM系统，用于控制金属 CMP 浓度。它是控制CMP过氧化物的可靠的中心工具，并被证明在微电子环境中的所有湿化学应用中都具有较好的性能，包括：

·铜，钨，阻挡层和金属CMP

·制定清洁

·DSP+

·湿法蚀刻，氮化物蚀刻

·平底蚀刻，食人鱼蚀刻

·高频

·废水